| 标题 |
Approaches to etch-resistant 193-nm photoresists: performance and prospects |
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10.1117/12.350262
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期刊:Advances in Resist Technology and Processing XVI 作者:Will Conley; Robert D. Allen; Juliann Opitz; Hiroshi Ito; Thomas I. Wallow; et al 出版日期:1999 |
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(2025-6-4)