Atomic Layer Deposition of an Indium Gallium Oxide Thin Film for Thin-Film Transistor Applications - 科研通

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标题	Atomic Layer Deposition of an Indium Gallium Oxide Thin Film for Thin-Film Transistor Applications 用于薄膜晶体管的铟镓氧化物薄膜的原子层沉积相关领域原子层沉积材料科学镓铟薄膜薄膜晶体管氧化物三甲基镓沉积（地质）图层（电子）无机化学化学工程分析化学（期刊）光电子学纳米技术金属有机气相外延有机化学化学冶金外延古生物学工程类生物沉积物
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.7b04985
DOI	10.1021/acsami.7b04985 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Jiazhen Sheng; Eun Jung Park; Bonggeun Shong; Jin‐Seong Park 出版日期：2017-07-05
求助人	double bubble 在 2023-12-07 13:00:46 发布自湖北，悬赏 10 积分
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