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 Lithography-defect-driven source-mask optimization solution for full-chip optical proximity correction 用于全芯片光学邻近校正的光刻缺陷驱动源掩模优化解决方案
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期刊：Applied Optics 作者：Austin Peng; Stephen D. H. Hsu; Rafael C. Howell; Qinglin Li 出版日期：2020-12-16 |
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