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 Effects of mask pattern transmission on ArF lithographic performance in contact hole patterning 接触孔图案化中掩模图案透射对ArF光刻性能的影响
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期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Naoto Yonemaru; Kazuaki Matsui; Yosuke Kojima; Tatsuya Nagatomo; Mitsuharu Yamana 出版日期：2021-03-22 |
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