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Effect of substrate orientation on homoepitaxial growth of β -Ga2O3 by halide vapor phase epitaxy
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DOI
10.1063/5.0087609 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Ken Goto; Hisashi Murakami; Akito Kuramata; Shigenobu S. Yamakoshi; Masataka Higashiwaki; et al
出版日期:2022-03-07
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