Atomic layer deposition of Y2O3 as high-k dielectrics by using a heteroleptic yttrium precursor and water

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标题	Atomic layer deposition of Y2O3 as high-k dielectrics by using a heteroleptic yttrium precursor and water
网址	https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2024.174532
DOI	10.1016/j.jallcom.2024.174532 doi
其它	期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Younian Tang; Yifan Liu; Zhixin Wan; Bin Xi 出版日期：2024-04-21
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