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SiGe and Si Gate-All-Around FET Fabricated by Selective Etching the Same Epitaxial Layers |
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期刊:2022 6th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM) 作者:Wei-Yuan Chang; Guang-Li Luo; Yi-Shuo Huang; Chun-Lin Chu; Yao-Jen Lee; et al 出版日期:2022-06-22 |
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(2025-6-4)