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标题
High wet-etch resistance SiO2 films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition with 1,1,1-tris(dimethylamino)disilane
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1116/6.0001519
DOI
10.1116/6.0001519 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Su Min Hwang; Harrison Sejoon Kim; Dan N. Le; Akshay Sahota; Jaebeom Lee; et al
出版日期：2022-02-11
求助人
莫失莫颜 在 2026-01-12 08:19:36 发布自江苏，悬赏 10 积分
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