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 High wet-etch resistance SiO2 films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition with 1,1,1-tris(dimethylamino)disilane 相关领域
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Su Min Hwang; Harrison Sejoon Kim; Dan N. Le; Akshay Sahota; Jaebeom Lee; et al 出版日期：2022-02-11 |
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