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标题
Fabrication and characterization of a high-electron-mobility transistor using a sputtering buffer layer on a Si substrate
在硅衬底上使用溅射缓冲层的高电子迁移率晶体管的制备和表征
相关领域
材料科学 溅射 光电子学 外延 图层（电子） 高电子迁移率晶体管 化学气相沉积 基质（水族馆） 氮化镓 晶体管 缓冲器（光纤） 氮化物 薄膜 纳米技术 计算机科学 电压 物理 海洋学 电信 量子力学 地质学
网址
https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2023.127259
DOI
10.1016/j.jcrysgro.2023.127259 doi
其它 期刊：Journal of Crystal Growth
作者：Yoshihiro Ueoka; Yuya Suemoto; Maki Kiuchi; Tokio Takahashi; Mitsuaki Shimizu; et al
出版日期：2023-05-16
求助人
绵绵球 在 2025-12-04 13:23:07 发布自福建，悬赏 10 积分
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