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Fabrication and characterization of a high-electron-mobility transistor using a sputtering buffer layer on a Si substrate

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作者
Yoshihiro Ueoka,Yuya Suemoto,Maki Kiuchi,Tokio Takahashi,Mitsuaki Shimizu,Masami Mesuda
出处
期刊：Journal of Crystal Growth [Elsevier BV]
日期：2023-05-16 卷期号：616: 127259-127259 被引量：2
标识
DOI：10.1016/j.jcrysgro.2023.127259
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