Carbon Hard Mask Opening Process Development with Novel Sidewall Passivation in Memory Manufacturing

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标题	Carbon Hard Mask Opening Process Development with Novel Sidewall Passivation in Memory Manufacturing
网址	https://doi.org/10.1109/cstic58779.2023.10219238
DOI	10.1109/cstic58779.2023.10219238 doi
其它	期刊：作者：Mengjiao Zhu; Li-Tian Xu; Jing Wang; Li Zeng; Zi-Han Zhang 出版日期：2023-06-26
求助人	Joyezhou 在 2026-08-15 14:18:07 发布自广东，悬赏 10 积分
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