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Key Processes in the Formation of Hollow SiO2 Particle in Plasma-Electrolytic Spraying |
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期刊:Technical Physics Letters 作者:L. N. Kashapov; R. N. Kashapov; N. F. Kashapov; V. Yu. Chebakova 出版日期:2026-08-15 |
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(2025-6-4)