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Plasma enhanced atomic layer deposition and atomic layer etching of gallium oxide using trimethylgallium 相关领域
三甲基镓
原子层沉积
蚀刻(微加工)
反应离子刻蚀
原子层外延
材料科学
镓
等离子体刻蚀
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化学
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外延
金属有机气相外延
冶金
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Kevin Hatch; D. C. Messina; R. J. Nemanich 出版日期:2022-06-22 |
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