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 Novolac design for high-resolution positive photoresist (III): a selection principle of phenolic compounds for novolac resins 用于高分辨率正性光刻胶的酚醛清漆设计(III)：酚醛清漆树脂用酚类化合物的选择原则
相关领域
光刻胶
苯酚
溶解
抵抗
共聚物
材料科学
聚合物
高分辨率
化学工程
化学
有机化学
复合材料
图层（电子）
遥感
工程类
地质学
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Makoto Hanabata; Akihiro Furuta 出版日期：1990-06-01 |
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