Amorphous boron nitride as an ultrathin copper diffusion barrier for advanced interconnects

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标题	Amorphous boron nitride as an ultrathin copper diffusion barrier for advanced interconnects
网址	https://doi.org/10.1088/2053-1583/ae2521
DOI	10.1088/2053-1583/ae2521 doi
其它	期刊：2D materials 作者：Onurcan Kaya; Hyeong-Joon Kim; Byeongkyu Kim; Thomas Galvani; LUIGI COLOMBO; et al 出版日期：2025-11-27
求助人	WWW 在 2026-10-30 13:51:39 发布自江苏，悬赏 10 积分
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