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标题
Impact of EUV mask absorber sidewall angle on patterning robustness
EUV掩模吸收器侧壁角度对图案化鲁棒性的影响
相关领域
极紫外光刻 稳健性（进化） 材料科学 光学 抵抗 光电子学 物理 复合材料 化学 生物化学 基因 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1117/12.2296865
DOI
10.1117/12.2296865 doi
其它 期刊：
作者：Lawrence S. Melvin; Yudhishthir Kandel; Tim Fuehner; Weimin Gao
出版日期：2018-03-19
求助人
5r 在 2025-09-18 14:31:29 发布自山东，悬赏 20 积分
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