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标题
The effects of sequential annealing in NO and wet-O2 on interfacial properties and reliability of 4H-SiC (0001) MOS devices
NO和wet-O2中顺序退火对4H-SiC（0001）MOS器件界面性质和可靠性的影响
相关领域
退火（玻璃） 钝化 材料科学 氧化物 电容器 X射线光电子能谱 碳化硅 分析化学（期刊） 栅氧化层 光电子学 化学工程 化学 复合材料 电压 电气工程 冶金 图层（电子） 色谱法 晶体管 工程类
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6641/ad9f9e
DOI
10.1088/1361-6641/ad9f9e doi
其它 期刊：Semiconductor Science and Technology
作者：Wenhao Lu; Niannian Ge; Caiping Wan; Hengyu Xu; Zhi Hao Jin; et al
出版日期：2024-12-16
求助人
哇哇 在 2025-08-14 13:47:05 发布自广东，悬赏 10 积分
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