Gas baffle optimization for CF4 plasma uniformity in inductively coupled plasma etching: numerical simulations

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标题	Gas baffle optimization for CF4 plasma uniformity in inductively coupled plasma etching: numerical simulations 相关领域迷惑感应耦合等离子体等离子体蚀刻（微加工）材料科学等离子体刻蚀分析化学（期刊）化学色谱法复合材料物理核物理学热力学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1088/2058-6272/addc1a
DOI	10.1088/2058-6272/addc1a doi
其它	期刊：Plasma Science and Technology 作者：Haoyu Song; Weifeng Zhao; Shitong Nai; Shaofeng Xu; Jianjun Shi; et al 出版日期：2025-05-22
求助人	含糊的雨安在 2025-10-18 19:27:25 发布自上海，悬赏 10 积分
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