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 Enhancement of Device Uniformity in IWO TFTs via RF Magnetron Co-Sputtering of In 2 O 3 and WO 3 Targets 相关领域
溅射
溅射沉积
光电子学
材料科学
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期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Zihan Wang; Feilian Chen; Mingjun Zhang; Xiaoliang Zhou; Paramasivam Balasubramanian; et al 出版日期：2024-10-10 |
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