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标题
Aluminium nitride thin films directly grown on conducting boron-doped nanocrystalline diamond films without using buffer layer for high frequency applications
不使用缓冲层直接在导电硼掺杂纳米晶金刚石膜上生长的氮化铝薄膜用于高频应用
相关领域
材料科学 钻石 拉曼光谱 氮化物 纳米压痕 电介质 氮化硼 氮化铝 纳米晶材料 复合材料 压电系数 结晶度 薄膜 压电 兴奋剂 光电子学 图层（电子） 铝 纳米技术 光学 物理
网址
https://doi.org/10.1016/j.matlet.2022.131966
DOI
10.1016/j.matlet.2022.131966 doi
其它 期刊：Materials Letters
作者：A. K. Das; Martando Rath; Deleep R. Nair; M. S. Ramachandra Rao; Amitava DasGupta
出版日期：2022-02-25
求助人
重组聚合酶扩增 在 2025-12-04 12:55:02 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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