Plasma-assisted polishing with silicon and silica plates: Comparison of interaction mechanism and achievement of atomically flat surfaces on single- and polycrystalline diamond

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标题	Plasma-assisted polishing with silicon and silica plates: Comparison of interaction mechanism and achievement of atomically flat surfaces on single- and polycrystalline diamond 硅和二氧化硅板的等离子体辅助抛光：单晶和多晶金刚石上相互作用机理的比较和原子级平坦表面的实现
网址	https://doi.org/10.1016/j.jmatprotec.2025.119187
DOI	10.1016/j.jmatprotec.2025.119187 doi
其它	期刊：Journal of Materials Processing Technology 作者：Jiayuan Dong; Sota Sugihara; Kafumi Fujiwara; Rongyan Sun; Yuji Ohkubo; et al 出版日期：2025-12-16
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