| 标题 |
Systematic Study of Nickel Silicide Based on Wafer-Scale Electrical Testing in 12-in 55 nm CMOS Technology |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Weitong Zhang; Jianghong Wang; Yang Xu; Wenzhang Fang; Ran Tao; et al 出版日期:2025-05-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)