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 Atomic layer deposition of metal and metal oxides: Mechanisms, challenges, and future prospects 相关领域
原子层沉积
材料科学
微电子
金属
商业化
沉积（地质）
图层（电子）
表征（材料科学）
催化作用
表面改性
过程（计算）
氧化物
纳米技术
薄膜
储能
可扩展性
工程物理
计算机科学
过程开发
钛
化学
多相催化
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期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Vu Hung Anh Tran; S. Cathrin Lims; Nadia Anwar; Muqarrab Ahmed; Nazia Iram; et al 出版日期：2025-09-22 |
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