Atomic-level surface formation of large-size SiC substrates by chemical mechanical polishing: Interfacial chemistry and removal mechanism

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标题	Atomic-level surface formation of large-size SiC substrates by chemical mechanical polishing: Interfacial chemistry and removal mechanism
网址	http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2026/TC/D6TC01597B
DOI	10.1039/d6tc01597b doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Xin Song; Y. Zou; Jiani Guo; Z. Dong; Renke Kang; et al 出版日期：2026-01-01
求助人	沉静的含芙在 2026-07-17 00:45:58 发布自福建，悬赏 10 积分
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