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Flow and trajectory field modeling and process optimization in diamond fixed abrasive lapping of single-crystal SiC
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DOI
10.1016/j.mssp.2025.110265 doi
其它 期刊:Materials Science in Semiconductor Processing
作者:Tong Yao; Xiaojing Yang; Yanjun Guo; Fang Lou; Bohan Cheng; et al
出版日期:2026-03-01
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邢绿凝 在 2026-08-27 09:51:23 发布自广东,悬赏 10 积分
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