Flow and trajectory field modeling and process optimization in diamond fixed abrasive lapping of single-crystal SiC

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作者
Tong Yao,Xiaojing Yang,Y. Guo,Fang Lou,Bohan Cheng,Guangyuan Du,Xueying Wang,Wenhua Miao,Rudan Zhang
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:203: 110265-110265
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2025.110265
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