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Comparison between mechanical method and chemical-assisted mechanical method for CVD diamond film polishing 相关领域
抛光
材料科学
钻石
化学气相沉积
表面粗糙度
化学机械平面化
表面光洁度
人造金刚石
复合材料
纳米技术
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期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Chun-Hao Hsieh; Hung-Yin Tsai; Hua-Tang Lai; Hung‐Yi Lin 出版日期:2002-11-01 |
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