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 Incorporation of indium into ε-gallium oxide epitaxial thin films grown via mist chemical vapour deposition for bandgap engineering 用于带隙工程的雾化学气相沉积ε-氧化镓外延薄膜中铟的引入
相关领域
氧化镓
镓
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期刊：CrystEngComm 作者：Hiroyuki Nishinaka; Neo Miyauchi; Daisuke Tahara; Shinya Morimoto; Masahiro Yoshimoto 出版日期：2018-01-01 |
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