| 标题 |
 书籍（章节） Spatially-Selective Incorporation of Bonded-Nitrogen into Ultra-Thin Gate Dielectrics by Low-Temperature Plasma-Assisted Processing 低温等离子体辅助加工将键合氮空间选择性掺入超薄栅电介质中
相关领域
栅极电介质
电介质
材料科学
栅氧化层
单层
退火（玻璃）
硅
光电子学
硼
等离子体
氮气
氧化物
渗透（战争）
纳米技术
电气工程
复合材料
化学
晶体管
有机化学
电压
冶金
物理
量子力学
运筹学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Springer eBooks 作者：G. Lucovsky 出版日期：1998-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
23
CAOHOU
Liufgui
鬼见愁
GingerF
YifanWang
54Darren
哈基米德
COSMAO
aldehyde
yx_cheng
研友_851bX8
比比谁的速度快
pollen
半城微凉
鲤鱼盼望
丘比特
yu
wyt
Kirito
皖公网安备34019202002308
