| 标题 |
[高分]
 New Quaternary Amines and Solvents for Photoresist Developing and Stripping Applications 用于光刻胶显影和剥离应用的新型季胺和溶剂
相关领域
四甲基氢氧化铵
光刻胶
氢氧化物
氢氧化铵
剥离（纤维）
核化学
四甲基铵
胆碱
材料科学
化学
无机化学
有机化学
纳米技术
离子
生物化学
图层（电子）
复合材料
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Solid State Phenomena 作者：Hui Zhou; Ke Zhang; Ai Yu Yan; Victoria E. White; Ronald Maus; et al 出版日期：2023-08-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
你嵙这个期刊没买
GingerF
嘻嘻哈哈
ccm
mashibeo
pluto
VDC
遇上就这样吧
竹筏过海
soler
梅天豪
悲凉的冬天
无极微光
Criminology34
GPTea
北地风情
兼听则明
Leonard
liao
动听衬衫
utopia
文静勒
csj的老父亲
皖公网安备34019202002308
