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 High-Performance HfO$_{\text{2}}$/Al$_{\text{2}}$O$_{\text{3}}$ Superlattice MIM Capacitor in a 200 mm High-Volume Batch-ALD Platform 高性能HfO$_{\text{2}}$/Al$_{\text{2}}$O$_{\text{3}}$超晶格MIM电容器在200 mm大容量批量ALD平台中的应用
相关领域
超晶格
电容器
体积热力学
材料科学
光电子学
物理
电子工程
电气工程
工程类
电压
量子力学
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| 其它 |
期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Partha Mukhopadhyay; Ivan Fletcher; Zuriel Caribe Couvertier; Julio Morris; Jennifer Perez; et al 出版日期：2024-01-01 |
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