High aspect-ratio sub-500 nm UV-PDMS bilayer stamps by means of hybrid thermal-ultraviolet curing for resonant nanopillars fabrication through soft UV-NIL

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标题	High aspect-ratio sub-500 nm UV-PDMS bilayer stamps by means of hybrid thermal-ultraviolet curing for resonant nanopillars fabrication through soft UV-NIL 高纵横比亚500nm UV-PDMS复合热紫外固化膜软UV-NIL制备共振纳米柱相关领域纳米柱材料科学紫外线制作 PDMS印章紫外线固化双层光电子学图层（电子）软光刻纳米技术固化（化学）纳米结构复合材料膜化学医学生物化学替代医学病理
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2023.112088
DOI	10.1016/j.mee.2023.112088 doi
其它	期刊：Microelectronic engineering 作者：Luca Tramarin; Rafael Casquel; Iñigo Mañueco; Miguel Holgado 出版日期：2023-10-01
求助人	陈皮糖不酸在 2024-05-21 09:22:08 发布自吉林，悬赏 10 积分
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