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![]() CF4/H2反应离子刻蚀硅中近表面残留物的形成
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 作者:Gregg E. Potter; G. H. Morrison; Peter K. Charvat; Arthur L. Ruoff 出版日期:2002-07-27 |
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