Investigation of silicon nitride for spacer via plasma-enhanced atomic layer deposition using a (tert-butylamino)dimethylsilane precursor

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标题	Investigation of silicon nitride for spacer via plasma-enhanced atomic layer deposition using a (tert-butylamino)dimethylsilane precursor 相关领域二甲基硅烷原子层沉积氮化硅图层（电子）硅沉积（地质）材料科学氮化物化学气相沉积分析化学（期刊）化学化学工程纳米技术无机化学冶金有机化学古生物学工程类生物沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.160715
DOI	10.1016/j.apsusc.2024.160715 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Chae Yeon Park; Hae Lin Yang; Hye-Mi Kim; Daejung Kim; Yongjoo Park; et al 出版日期：2024-07-09
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