Investigation of silicon nitride for spacer via plasma-enhanced atomic layer deposition using a (tert-butylamino)dimethylsilane precursor

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作者
Chae Yeon Park,Hae Lin Yang,Hye-Mi Kim,Daejung Kim,Yongjoo Park,Jongruyl Park,Jongruyl Park,Seokhee Shin,Jin-Seong Park,Jin-Seong Park
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:670: 160715-160715 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2024.160715
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