Epitaxial growth of a silicon capping layer to mitigate roughness after the selective chemical etching of Si1-xGex

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标题	Epitaxial growth of a silicon capping layer to mitigate roughness after the selective chemical etching of Si1-xGex
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S004060902...
DOI	10.1016/j.tsf.2020.138048 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Hyun Woo Lee; Yongjoon Choi; Donghyuk Shin; Dae-Seop Byeon; Dae-Hong Ko 出版日期：2020-05-20
求助人	谦让的忘幽在 2026-04-13 14:09:10 发布自江苏，悬赏 10 积分
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