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Epitaxial growth of a silicon capping layer to mitigate roughness after the selective chemical etching of Si1-xGex |
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期刊:Thin Solid Films 作者:Hyun Woo Lee; Yongjoon Choi; Donghyuk Shin; Dae-Seop Byeon; Dae-Hong Ko 出版日期:2020-05-20 |
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