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 Al Incorporation up to 99% in Metalorganic Chemical Vapor Deposition‐Grown Monoclinic (AlxGa1–x)2O3 Films Using Trimethylgallium 相关领域
单斜晶系
三乙基镓
三甲基镓
金属有机气相外延
化学气相沉积
材料科学
结晶学
X射线光电子能谱
薄膜
分析化学（期刊）
外延
高分辨率透射电子显微镜
透射电子显微镜
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期刊：Physica Status Solidi (rrl) 作者：A F M Anhar Uddin Bhuiyan; Lingyu Meng; Hsien‐Lien Huang; Christopher Chae; Jinwoo Hwang; et al 出版日期：2023-07-30 |
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