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 The effect of amino acid addition in CeO2-based slurry on SiO2/Si3N4 CMP: Removal rate selectivity, morphology, and mechanism research 相关领域
选择性
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期刊：Journal of Molecular Liquids 作者：Xinyu Han; Shihao Zhang; Renhao Liu; Fangyuan Wang; Baimei Tan; et al 出版日期：2024-08-25 |
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