| 标题 |
Effect of SiN:H x passivation layer on the reverse gate leakage current in GaN HEMTs 相关领域
钝化
材料科学
等离子体增强化学气相沉积
分析化学(期刊)
化学气相沉积
肖特基二极管
光电子学
泄漏(经济)
原子层沉积
傅里叶变换红外光谱
晶体管
图层(电子)
纳米技术
电压
化学
化学工程
电气工程
宏观经济学
经济
工程类
二极管
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Chinese Physics B 作者:Sheng Zhang; Ke Wei; Yang Xiao; Xiao-Hua Ma; Yi-Chuan Zhang; et al 出版日期:2018-09-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)