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Dopant selection for control of charge carrier density and mobility in amorphous indium oxide thin-film transistors: Comparison between Si- and W-dopants
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DOI
10.1063/1.4907285 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Nobuhiko Mitoma; Shinya Aikawa; Wei Ou-Yang; Xu Gao; Takio Kizu; et al
出版日期:2015-01-31
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