| 标题 |
Effects of high pressure oxygen annealing on Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 ferroelectric device |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Nanotechnology 作者:Hyungwoo Kim; Alireza Kashir; Seungyeol Oh; Hojung Jang; Hyunsang Hwang 出版日期:2021-04-27 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)