Layer-Selective Crystallization of Indium–Gallium Oxide and Indium–Gallium–Zinc Oxide Bilayer Channel Induced by Annealing After UV Treatment for High-Performance Oxide Thin-Film Transistors

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标题	Layer-Selective Crystallization of Indium–Gallium Oxide and Indium–Gallium–Zinc Oxide Bilayer Channel Induced by Annealing After UV Treatment for High-Performance Oxide Thin-Film Transistors
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.5c24727
DOI	10.1021/acsami.5c24727 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Jae Seong Yun; Dong Keun Lee; Seok Gyu Hong; Yong Seon Hwang; H. Kim; et al 出版日期：2026-03-12
求助人	犹豫的秋凌在 2026-09-18 18:51:44 发布自广东，悬赏 10 积分
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