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Characterization of SiO2 Over Poly-Si Mask Etching in Ar/C4F8 Capacitively Coupled Plasma |
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10.5757/asct.2021.30.6.176
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期刊:Applied Science and Convergence Technology 作者:In Ho Seong; Jang Jae Lee; Chul Hee Cho; Yeong Seok Lee; Si Jun Kim; et al 出版日期:2021-11-30 |
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(2025-6-4)