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High-throughput thermodynamic study of SiC high-temperature chemical vapor deposition from TMS-H2
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DOI
10.1016/j.jcrysgro.2023.127489 doi
其它 期刊:Journal of Crystal Growth
作者:Pengjian Lu; Wei Huang; Junjun Wang; Haitao Yang; Shiyue Guo; et al
出版日期:2023-11-09
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