A Novel Synergistic Doping Combined with Morphology Engineering Technique for Parasitic Gate Capacitance Reduction in Vertical FETs

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标题	专利、报告等 A Novel Synergistic Doping Combined with Morphology Engineering Technique for Parasitic Gate Capacitance Reduction in Vertical FETs
网址	https://doi.org/10.2139/ssrn.6411284
DOI	10.2139/ssrn.6411284 doi
其它	期刊：作者：Zhicheng Wang; Huilong Zhu; Yongkui Zhang; Yongliang Li 出版日期：2026-03-14
求助人	画画的baby 在 2026-07-03 21:37:05 发布自荷兰，悬赏 40 积分
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