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标题
Atomic layer deposition of Ta-doped SnO2 films with enhanced dopant distribution for thermally stable capacitor electrode applications
网址
http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.143804
DOI
10.1016/j.apsusc.2019.143804 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Cheol Jin Cho; Jung Joon Pyeon; Cheol Seong Hwang; Jin-Sang Kim; Seong Keun Kim
出版日期：2019-12-01
求助人
杨小小 在 2026-07-16 17:53:57 发布自江苏，悬赏 10 积分
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