Plasma-enhanced atomic layer deposition of molybdenum carbide and carbonitride films using bis(isopropylcyclopentadienyl)molybdenum(IV) dihydride and an H2/N2/Ar plasma

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标题	Plasma-enhanced atomic layer deposition of molybdenum carbide and carbonitride films using bis(isopropylcyclopentadienyl)molybdenum(IV) dihydride and an H2/N2/Ar plasma
网址	http://dx.doi.org/10.1116/6.0002970
DOI	10.1116/6.0002970 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Wangu Kang; Ji Sang Ahn; Jeong Hwan Han 出版日期：2023-09-12
求助人	找不到在 2026-09-21 10:45:32 发布自福建，悬赏 10 积分
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