Heteroepitaxy of InP on Si(001) by selective-area metal organic vapor-phase epitaxy in sub-50 nm width trenches: The role of the nucleation layer and the recess engineering

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标题	Heteroepitaxy of InP on Si(001) by selective-area metal organic vapor-phase epitaxy in sub-50 nm width trenches: The role of the nucleation layer and the recess engineering
网址	https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/doi/10.1063/1.48620...
DOI	10.1063/1.4862044 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：C. Merckling; N. Waldron; S. Jiang; W. Guo; N. Collaert; et al 出版日期：2014-01-17
求助人	刘一帆在 2026-07-22 10:38:46 发布自日本，悬赏 10 积分
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