Effect of NF3, WF6, and MoF6 Additive Gases on High Aspect Ratio Contact SiO2 Etching in c-C4F8/C4F6/Ar/O2 Plasmas

已完结

文献求助详情

标题	Effect of NF3, WF6, and MoF6 Additive Gases on High Aspect Ratio Contact SiO2 Etching in c-C4F8/C4F6/Ar/O2 Plasmas
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.4c02239
DOI	10.1021/acsaelm.4c02239 doi
其它	期刊：ACS applied electronic materials 作者：Hyun Woo Tak; Changsik Choi; Seong Bae Kim; M. Park; Jun Soo Lee; et al 出版日期：2025-02-19
求助人	wuzhoumeng 在 2026-07-14 13:43:02 发布自上海，悬赏 10 积分
下载	该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。

上个求助

下个求助

提交工单

该求助已完结，感谢关注

如需该文献，请重新发布求助，前往发布

科研通，破除各种障碍，优化资源分配，让科研信息充分流通

请遵守相关知识产权规定，勿将文件分享给他人，仅可用于个人研究学习

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

更新

⚡ 2026年影响因子、分区 已更新！ (2026-6-17)

更新

📰 新增『新锐期刊分区』 (2026-3-24)

更新

💬 新增更精细的自定义提醒设置 (2026-1-4)

新增

🕒 每天60秒读懂世界·精选全球要闻 (2026-1-2)

新增

PDF的下载单位、IP信息已删除 (2025-6-4)

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: 老泮完成签到，获得积分10

2秒前; Kao上传了应助文件

17秒前; 科研通AI6.4的应助被火星上飞珍采纳，获得10

31秒前; 丘比特上传了应助文件

38秒前; Kao上传了应助文件

41秒前; 娇气的萝卜糕完成签到，获得积分10

41秒前; zsh发布了新的文献求助10

42秒前; 研友_VZG7GZ的应助被娇气的萝卜糕采纳，获得10

48秒前; 科研通AI6.3上传了应助文件

52秒前; 无聊的烷烃发布了新的文献求助10

56秒前; orixero上传了应助文件

1分钟前; 彭于晏上传了应助文件

1分钟前; Setlla完成签到，获得积分0

1分钟前; 研友_nEoDm8发布了新的文献求助10

1分钟前; Kao上传了应助文件

1分钟前; careyzhou发布了新的文献求助10

1分钟前; 传奇3上传了应助文件

1分钟前; Eason发布了新的文献求助10

1分钟前; Kao上传了应助文件

1分钟前; 在水一方的应助被1231325458采纳，获得10

1分钟前; 在水一方上传了应助文件

1分钟前; Ben完成签到，获得积分20

1分钟前; 1231325458发布了新的文献求助10

1分钟前; 科目三上传了应助文件

1分钟前; Kao上传了应助文件

1分钟前; zsh发布了新的文献求助10

1分钟前; Copyright的应助被科研通管家采纳，获得10

2分钟前; Kao的应助被科研通管家采纳，获得10

2分钟前; St完成签到，获得积分10

2分钟前; Kao上传了应助文件

2分钟前; 666666666666666完成签到，获得积分10

2分钟前; Kao上传了应助文件

2分钟前; 田様上传了应助文件

2分钟前; Kao上传了应助文件

3分钟前; 丁丁发布了新的文献求助10

3分钟前; snow完成签到，获得积分10

3分钟前; 大医仁心完成签到，获得积分10

3分钟前; Kao上传了应助文件

3分钟前; 小二郎上传了应助文件

3分钟前; YY发布了新的文献求助10

3分钟前