| 标题 |
Structural and electrical transitions in VO2/c-Al2O3 films investigated using simultaneous X-ray reciprocal space mapping and electrical resistance measurements 相关领域
材料科学
互易晶格
电阻和电导
X射线
空格(标点符号)
互惠的
电阻率和电导率
结晶学
光学
复合材料
衍射
电气工程
计算机科学
化学
哲学
工程类
物理
操作系统
语言学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:H. Oh; S. Ha; I. Cho; Youngmin Yun; Seonghyun Han; et al 出版日期:2025-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)